電着膜形成方法、電極形成方法および電着膜形成装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐藤正美
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-136117
公開番号（公開出願番号）：特開2000-328289
特許番号：特許第3541931号
出願日： 1999年05月17日
公開日（公表日）： 2000年11月28日
請求項（抜粋）：

【請求項1】少なくとも表面がレーザ照射により荷電粒子の発生が可能な物質とされている被処理体を電解質溶液内に保持すると共に、前記被処理体の前記表面に、ピコ秒以下のパルス幅を持つパルスレーザを照射して、前記被処理体の前記表面の前記レーザ照射部分に電着膜を形成する電着膜形成方法。

IPC (3件)：