特許
J-GLOBAL ID：201103063349759816
欠陥検査方法及び欠陥検査装置
出願人/特許権者：
株式会社ルネサステクノロジ
株式会社ルネサステクノロジ について
代理人 (2件)： 筒井 大和 , 作田 康夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-070992
公開番号（公開出願番号）：特開2000-315712
特許番号：特許第3599631号
出願日： 2000年03月09日
公開日（公表日）： 2000年11月14日
請求項（抜粋）：
【請求項1】光源から発射された光で、繰り返しパターンが形成された試料の表面を斜め方向から照明する照明手段と、該照明手段で照明されて前記試料で反射した光を検出する検出手段と、該検出手段で検出した信号を処理して欠陥を検出する欠陥検出手段とを備えた欠陥検査装置であって、前記照明手段は前記光源から発射した光を線状に成形する成形部を有して該成形部で線状に成形された光を前記試料の表面に照射し、前記検出手段は前記照明手段により線状に成形された光を照射された前記試料の表面の繰り返しパターンからの反射光による回折パターンのうちの所定の空間周波数を有する回折パターンを遮光する複数の遮光部分を備えた空間フィルタを有し、前記欠陥検出手段は前記空間フィルターを通過した光を前記検出手段で検出した信号を処理することにより前記試料上の欠陥を検出することを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (3件)：
FI (3件)：
引用特許：
出願人引用 (4件)
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プロセス集積化装置および電極配線の製造方法
公報種別：公開公報 出願番号：特願平3-201231 出願人：沖電気工業株式会社 -
ホトマスクの欠陥検査装置
公報種別：公開公報 出願番号：特願平3-233850 出願人：株式会社日立製作所 -
特開平4-002950
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