特許
J-GLOBAL ID:201103063695774694
ガス溶解水供給装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
内山 充
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-082521
公開番号(公開出願番号):特開2000-271549
特許番号:特許第4503111号
出願日: 1999年03月25日
公開日(公表日): 2000年10月03日
請求項(抜粋):
【請求項1】 (A)ガス溶解水製造装置、(B)ガス溶解水製造装置で製造されたガス溶解水を貯留する貯留タンク、(C)貯留タンク内のガス溶解水の液面に接して上下動し、ガス溶解水と気相とを遮断する遮蔽材、(D)貯留タンクに貯留されているガス溶解水をユースポイントにまで供給し、該ユースポイントを経て、ユースポイントで使用されなかったガス溶解水を貯留タンクに返送する循環配管、(E)循環配管に設けられ、ガス溶解水を送給するポンプ及び(F)循環配管に設けられた温度調整装置とを有するガス溶解水供給装置であって、ガス溶解水を貯留する貯留タンクに、高水位計と低水位計を有し、貯留タンクの水位の変動に応じて各水位計からガス溶解水製造装置に信号を送る手段を有し、貯留タンクの水位が低水位の位置まで低下するとガス溶解水の製造を開始して、貯留タンクの水位が高水位の位置まで上昇するとガス溶解水の製造を停止する自動的制御手段を有することを特徴とするガス溶解水供給装置。
IPC (2件):
B08B 3/08 ( 200 6.01)
, H01L 21/304 ( 200 6.01)
FI (3件):
B08B 3/08 Z
, H01L 21/304 647 Z
, H01L 21/304 648 K
引用特許:
審査官引用 (2件)
-
洗浄液の製造方法およびそのための装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-166695
出願人:株式会社フロンテック, 大見忠弘, オルガノ株式会社
-
流体用タンク
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-285941
出願人:株式会社石間流体研究所
前のページに戻る