特許
J-GLOBAL ID：201103064394525571

薄膜磁気ヘッドの製造方法

発明者：
宮崎 哲夫

宮崎 哲夫 について

, 
前川 和也

前川 和也 について


出願人/特許権者：
TDK株式会社

TDK株式会社 について


代理人 (1件)： 星宮 勝美
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-181141
公開番号（公開出願番号）：特開2002-373403
特許番号：特許第4033437号
出願日： 2001年06月15日
公開日（公表日）： 2002年12月26日
請求項（抜粋）：
【請求項1】記録媒体に対向する媒体対向面と、互いに磁気的に連結され、前記媒体対向面側において互いに対向する磁極部分を含み、それぞれ少なくとも1つの層を含む第1および第2の磁性層と、前記第1の磁性層の磁極部分と前記第2の磁性層の磁極部分との間に設けられたギャップ層と、少なくとも一部が前記第1および第2の磁性層の間に、前記第1および第2の磁性層に対して絶縁された状態で設けられた薄膜コイルとを備え、前記第1の磁性層と前記第2の磁性層の少なくとも一方は、記録トラック幅を規定する第1の部分と他の第2の部分とを含むトラック幅規定層を有する薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、 前記第1の磁性層を形成する工程と、 前記第1の磁性層の上に前記ギャップ層を形成する工程と、 前記ギャップ層の上に前記第2の磁性層を形成する工程と、 前記薄膜コイルを形成する工程とを備え、 前記第1の磁性層を形成する工程と前記第2の磁性層を形成する工程の少なくとも一方は、前記トラック幅規定層の下地の上に、前記トラック幅規定層に対応した形状の開口部を有するフレームを形成する工程と、めっき法によって、前記フレームの開口部内に、前記トラック幅規定層を形成する工程とを含み、 前記フレームを形成する工程は、 前記トラック幅規定層の下地の上に、少なくとも第1の層、第2の層および第3の層を、この順に形成する工程と、 フォトリソグラフィによって、前記第3の層に、前記トラック幅規定層の前記第2の部分に対応した形状の第1の開口部を形成する工程と、 前記第1の開口部が形成された前記第3の層をエッチングマスクとして前記第2の層をエッチングして、前記第2の層に、前記第3の層における第1の開口部に対応した形状の第2の開口部を形成する工程と、 エッチングマスクを使用しない局部的なエッチング方法を用いて前記第2の層をエッチングして、前記第2の層に、前記トラック幅規定層の前記第1の部分に対応した形状の第3の開口部を形成する工程と、 前記第1の層によって前記フレームが形成されるように、前記第2の開口部と前記第3の開口部とが形成された前記第2の層をエッチングマスクとして前記第1の層をエッチングして、前記第1の層に、前記トラック幅規定層に対応した形状の第4の開口部を形成する工程とを含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
IPC (1件)：
G11B 5/31 ( 200 6.01)
FI (2件)：
G11B 5/31 D ,  G11B 5/31 A
引用特許：
審査官引用 (4件)
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