透明導電膜のシート抵抗値の調整方法及び透明導電膜の形成方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大石治仁
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-208947
公開番号（公開出願番号）：特開2001-035273
特許番号：特許第4377003号
出願日： 1999年07月23日
公開日（公表日）： 2001年02月09日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板上に、化学的気相成長法(CVD法)により、直接又はその他の膜を介して透明導電膜を形成する工程と、前記透明導電膜が形成された基板を加熱処理室内に設置し、所定の濃度の有機溶剤を霧化させて前記加熱処理室内に導入して加熱処理する工程を有する、透明導電膜のシート抵抗値の調整方法。

IPC (2件)：