特許
J-GLOBAL ID：201103065712299710
位置感度の高い検出器による透過オペレーションに対するSEM
ハイレス ミヒャエル エフ
, ハイレス ミヒャエル エフ について
ファン ヴィーン ゲラルダス エヌ エー
ファン ヴィーン ゲラルダス エヌ エー について
出願人/特許権者：
エフ イー アイ カンパニ
エフ イー アイ カンパニ について
代理人 (1件)： 沢田 雅男
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-591649
特許番号：特許第4590590号
出願日： 1999年12月17日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 粒子-光学装置であって、
-加速電圧の影響下で前記装置の光学軸に沿って移動する電気的に充電されている粒子の一次ビームを生成する粒子源、
-前記一次ビームにより照射される試料に対する試料位置を有する試料ホルダー、
-前記試料位置の近くで前記一次ビームのフォーカスを生成するフォーカス生成装置、
-前記フォーカスされた一次ビームによって前記試料を走査するビーム偏向システム、
-前記一次ビームの前記入射に応答して前記試料から発生する帯電粒子を検出する、前記一次ビームの前記伝播方向から見て、前記試料位置の背後に配置されている、検出器表面を有する検出手段、
-前記検出器表面と前記試料位置の間に配置されている、前記試料から発生する前記帯電粒子に対するマスク、
を有する粒子-光学装置において、
-前記粒子-光学装置が、生成される加速電圧は最大でも50 kVになるように構成されていて、
-前記マスクには、前記マスクにおいて偏心的に位置するように設けられている少なくとも一つのマスク開口が設けられていて、
-前記粒子-光学装置のオペレーションの間、前記マスクを回転させる回転手段が設けられていて、
-前記検出器表面が電気的に絶縁させることができる少なくとも1以上の部分に細分割された前記検出器表面を選択することができて、
-前記マスクの中心に対し対称となるように位置する少なくとも1以上のマスク開口が設けられた前記マスクを選択することができる
ように構成された粒子-光学装置。
IPC (3件)：
FI (3件)：
引用特許：
出願人引用 (4件)
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特開平2-015545
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特開平1-149352
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走査透過電子顕微鏡
公報種別：公開公報 出願番号：特願平5-276436 出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立サイエンスシステムズ
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