特許
J-GLOBAL ID：201103065717131450

複合パターンのための位相シフトマスキング

発明者：
ピアラ クリストフ

ピアラ クリストフ について


出願人/特許権者：
シノプシス インコーポレイテッド

シノプシス インコーポレイテッド について


代理人 (5件)： 熊倉 禎男 ,  大塚 文昭 ,  西島 孝喜 ,  須田 洋之 ,  上杉 浩
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-508143
特許番号：特許第4393063号
出願日： 2000年11月28日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 レイヤを画定するフォトリソグラフィ・マスクのためのパターンを処理する段階であって、前記パターンは、前記レイヤ内に露光領域及び未露光領域を画定するようになっている段階を含み、 第1の特徴部サイズ未満の寸法を有する前記パターン内の露光領域を特定する段階を含み、 第2の特徴部サイズ未満の寸法を有する前記パターン内の未露光領域を特定する段階を含み、 それぞれの形状を有する位相シフト領域を有する位相シフトマスクを作成するために、前記特定された露光領域に対してレイアウト・ルールを使用して、不透明領域内に、前記レイアウト・ルールを使用して結果的に位相競合部をもたらす領域を含む位相シフト領域をレイアウトする段階を含み、 前記位相競合部を補正するために、前記位相シフトマスク内の1つ又はそれ以上の位相シフト領域の前記形状に対して修正を加える段階を含み、 露光領域の間の前記未露光領域のエッジ解像度を支援するために、前記特定された未露光領域に対する位相シフト領域を前記位相シフトマスク内にレイアウトする段階を含み、 前記形状の修正は、第1の位相を有する位相シフト領域を、前記第1の位相を有する第1の位相シフト領域と前記第1の位相を有する第2の位相シフト領域とに分割する段階と、前記第1の位相シフト領域と前記第2の位相シフト領域との間にサブ解像度特徴部を追加する段階と、前記第1の位相シフト領域と前記第2の位相シフト領域とを分離する不透明特徴部を前記マスクに追加する段階とを含み、 前記位相シフトマスク内の前記第1の位相シフト領域及び前記第2の位相シフト領域を使用して露光されるべき前記特徴部の露光を防止する不透明特徴部を含む相補マスクをレイアウトする段階を含み、前記相補マスクの不透明特徴部は、前記第1の位相シフト領域と前記第2の位相シフト領域との間の1つの除外されたコーナ部における位相遷移から生じる任意の特徴部を露光するために、前記第1の位相シフト領域と前記第2の位相シフト領域とを分離する不透明特徴部を覆う切抜き部を含む、 ことを特徴とする方法。
IPC (2件)：
G03F 1/08 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)
FI (2件)：
G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (4件)
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