ステンシルマスク及びその製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高田守
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-236092
公開番号（公開出願番号）：特開2002-050565
特許番号：特許第3893239号
出願日： 2000年08月03日
公開日（公表日）： 2002年02月15日
請求項（抜粋）：

【請求項1】電子ビーム描画装置で用いられるステンシルマスクであって、孤立した島状の遮光パターンとこの島状の遮光パターンを取囲む環状の開口パターンとを有する表面パターン層と、上記遮光パターンの背面を含む上記表面パターン層の背面に接合され上記遮光パターンを支持する梁状のパターンとを備えたことを特徴とするステンシルマスク。

IPC (2件)：