特許
J-GLOBAL ID：200903083370029324
マスク作製用部材、マスク及びそれらの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-330668
公開番号（公開出願番号）：特開平11-162823
出願日： 1997年12月01日
公開日（公表日）： 1999年06月18日
要約：
【要約】【課題】 圧縮応力によるメンブレンの撓みや、引っ張り応力によるパターンの変形を抑制または解消した、マスク作製用部材、マスク及びそれらの製造方法を提供すること。【解決手段】 感応基板に転写すべきパターンが形成されたメンブレン7’が支持部材Hにより支持されてなるマスクにおいて、前記メンブレン7’はシリコン薄膜により形成され、該シリコン薄膜にはシリコンの原子半径よりも小さい原子半径を有する不純物元素が拡散されてなることを特徴とするマスク。
請求項（抜粋）：
マスクパターンが形成されるメンブレンが支持部材により支持されてなるマスク作製用部材において、前記メンブレンはシリコン薄膜により形成され、該シリコン薄膜にはシリコンの原子半径よりも小さい原子半径を有する不純物元素が拡散されてなることを特徴とするマスク作製用部材。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 531 M
, G03F 1/08 L
, H01L 21/30 502 P
