特許

J-GLOBAL ID：201103066027501170

廃液分離回収システム及び廃液分離回収方法

発明者： 山内 俊和 ,  太田 泰晴
出願人/特許権者： OKIセミコンダクタ株式会社 ,  OKIセミコンダクタ宮崎株式会社
代理人 (3件)： 青木 俊明 ,  清水 守 ,  川合 誠
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-044540
公開番号（公開出願番号）：特開2002-246301
特許番号：特許第4531998号
出願日： 2001年02月21日
公開日（公表日）： 2002年08月30日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板の周囲に配置され、前記基板から飛散するホトレジスト廃液を受ける第1のカップと、 前記ホトレジスト廃液を蓄積するホトレジスト廃液溝と、 前記基板から飛散するホトレジスト廃液を前記ホトレジスト廃液溝に導く排気流を発生させる排気手段と、 排気孔を備え、前記第1のカップと前記基板との間に配置され、前記基板から飛散するリンス廃液を受ける第2のカップと、 前記リンス廃液を蓄積するリンス廃液溝とを有し、 前記排気孔は前記第2のカップの側面に配設され、 前記排気孔の前記基板側に、前記リンス廃液が前記ホトレジスト廃液に混入することを防止するための液止めを配置し、 前記排気手段は、前記排気流を、前記排気孔を通じて前記第1のカップ側から前記基板側に流れるように発生させることを特徴とする廃液分離回収システム。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  G03F 7/16 ( 200 6.01) ,  H01L 21/304 ( 200 6.01)

FI (5件)：

H01L 21/30 564 C ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/304 648 F ,  H01L 21/304 648 L ,  H01L 21/304 648 K

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-191883   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板回転式処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-237725   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板処理装置及び基板処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-126235   出願人：日立電子エンジニアリング株式会社
• 薬液処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-003304   出願人：株式会社日立製作所