特許
J-GLOBAL ID：201103066589877840
水溶性酸化剤を用いた炭化ケイ素の研磨方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 出野 知
, 蛯谷 厚志
, 塩川 和哉
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-549645
公開番号（公開出願番号）：特表2011-513991
出願日： 2009年03月02日
公開日（公表日）： 2011年04月28日
要約：
本発明の方法は、液体キャリア、研削材及び酸化剤を含有する研磨組成物を用いて、少なくとも1層の炭化ケイ素を有する基材を化学的-機械的に研磨することを含む。
請求項（抜粋）：
基材を化学的-機械的に研磨する方法であって、次を(i)〜(iii)含む方法:
(i)少なくとも1層の単結晶炭化ケイ素を有する基材と、次の(a)〜(c)を含有する化学的-機械的研磨組成物とを接触させること:
(a)液体キャリア、
(b)前記液体キャリア中に懸濁された研削材であって、アルミナであり、且つ前記液体キャリア及び前記液体キャリアに溶解され又は懸濁されたあらゆる成分の重量に基づいて3wt%以下の量で存在する研削材、及び
(c)前記液体キャリア及び前記液体キャリアに溶解され又は懸濁されたあらゆる成分の重量に基づいて0.001〜2.5wt%の量で存在する酸化剤であって、過酸化水素、オキソン、硝酸セリウムアンモニウム、過ヨウ素酸塩、ヨウ素酸塩、過硫酸塩、クロム酸塩、塩素酸塩、過マンガン酸塩、臭素酸塩、過臭素酸、鉄酸塩、過レニウム酸塩、過ルテニウム酸塩及びそれらの混合物からなる群から選択される酸化剤;
(ii)前記基材に対して前記研磨組成物を動かすこと;及び
(iii)前記基材の前記炭化ケイ素の少なくとも一部分を摩耗させて、前記基材を研磨すること。
IPC (3件)：
H01L 21/304
, B24B 37/00
, C09K 3/14
H01L21/304 622D
, H01L21/304 622W
, B24B37/00 H
, C09K3/14 550D
, C09K3/14 550Z
3C058AA07
, 3C058CA05
, 3C058CB03
, 3C058DA02
, 3C058DA12
, 3C058DA17
, 5F057AA14
, 5F057AA28
, 5F057BA12
, 5F057BB09
, 5F057DA03
, 5F057EA01
, 5F057EA06
, 5F057EA08
, 5F057EA09
, 5F057EA21
, 5F057EA22
, 5F057EA29
, 5F057EA32
