プラズマ処理装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：高田幸彦 , ポレール特許業務法人 , 竹ノ内勝
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-258233
公開番号（公開出願番号）：特開2001-085399
特許番号：特許第4616951号
出願日： 1999年09月13日
公開日（公表日）： 2001年03月30日
請求項（抜粋）：

【請求項1】プラズマ発生装置と、減圧可能なエッチング処理室と、プラズマ発生装置とエッチング処理室との間に順次配設されてエッチング処理室にマイクロ波を導く導波管および空気層と、エッチング処理室と空気層との間に配設されてエッチング処理室にマイクロ波を供給する石英板と、エッチング処理室中に磁場を供給する磁場供給装置と、エッチング処理室にガスを供給するガス供給装置と、プラズマ処理を施すウエハを支持する試料台と、試料台上に支持されたウエハに高周波を印加する装置と、真空排気装置により成るプラズマ処理装置において、マイクロ波を供給する石英板の下面からエッチングの処理を行うウエハまでの距離を、エッチング処理室中に供給されるマイクロ波の波長(λ)のλ/2の整数倍とし、更に空気層および石英板を合わせた長さもマイクロ波の波長(λ)のλ/2の整数倍とし、導波管に設けたプラズマ発生装置からウエハまでの長さをマイクロ波の波長(λ)のλ/2の整数倍としたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 ( 200 6.01) , H05H 1/46 ( 200 6.01)

FI (2件)：

H01L 21/302 101 D , H05H 1/46 B

引用特許：

出願人引用 (8件)

プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-249576 出願人：株式会社日立製作所
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-339519 出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立エンジニアリングサービス
マイクロ波励起プラズマ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-058677 出願人：株式会社東芝

全件表示

審査官引用 (9件)

特開平4-361529
マイクロ波プラズマ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-197531 出願人：東京エレクトロン株式会社
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-249576 出願人：株式会社日立製作所

全件表示

前のページに戻る