特許
J-GLOBAL ID：201103067367191750
欠陥検査方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森本 義弘
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-327041
公開番号（公開出願番号）：特開2003-130813
特許番号：特許第4020621号
出願日： 2001年10月25日
公開日（公表日）： 2003年05月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 隣り合う2本の平行な直線状パターンを一対とする一対パターンが複数形成された検査対象物の欠陥を検査するに際して、検査対象物を撮像して得られた濃淡データを差分処理して欠陥候補を抽出し、抽出した欠陥候補の欠陥種類及び位置を前記濃淡データから判別し、前記欠陥候補の位置が、一対パターンにおける2本のパターン間の場合は前記欠陥種類に基づく第1のしきい値で前記欠陥候補を欠陥として検出し、隣り合う2つの一対パターン間の場合は前記欠陥種類に基づく前記第1のしきい値と異なる第2のしきい値で前記欠陥候補を欠陥として検出することを特徴とする欠陥検査方法。
IPC (4件)：
G01N 21/956 ( 200 6.01)
, G01M 11/00 ( 200 6.01)
, H01J 9/42 ( 200 6.01)
, G09F 9/00 ( 200 6.01)
G01N 21/956 Z
, G01M 11/00 T
, H01J 9/42 A
, G09F 9/00 352
