特許
J-GLOBAL ID:201103067401354949
第三級アミンN-オキシドの製造法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
佐伯 憲生
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-203338
公開番号(公開出願番号):特開2003-012633
特許番号:特許第3559004号
出願日: 2001年07月04日
公開日(公表日): 2003年01月15日
請求項(抜粋):
【請求項1】第三級アミンと過酸化水素をスルホン酸基が結合した高分子化合物を触媒に用いて反応させることを特徴とする、第三級アミンN-オキシドの製造法。
IPC (3件):
C07C 291/04
, B01J 31/10
, C07B 61/00
FI (3件):
C07C 291/04
, B01J 31/10 X
, C07B 61/00 300
引用特許:
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