特許
J-GLOBAL ID：201103068159878578

ポジ型レジスト組成物

発明者：
森馬 洋

森馬 洋 について

, 
高田 佳幸

高田 佳幸 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (2件)： 久保山 隆 ,  中山 亨
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-178268
公開番号（公開出願番号）：特開2001-005176
特許番号：特許第3931486号
出願日： 1999年06月24日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 アルカリ可溶性樹脂、感放射線成分としてのキノンジアジド化合物、及び下式(I) (式中、R1、R2、R3、R4及びR5は互いに独立に、水素、アルキル又はアルコキシを表し、nは1〜3の整数を表す) で示されるヒドロキシフェニルケトン化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/004 ( 200 6.01) ,  G03F 7/023 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)
FI (3件)：
G03F 7/004 501 ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/30 502 R
引用特許：
出願人引用 (8件)
全件表示
審査官引用 (8件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM