特許

J-GLOBAL ID：201103068662220652

電子線レジスト

発明者： パーマー、リチャード エドワード ,  ロビンソン、アレグザンダー フィリップ ,  金山 敏彦 ,  多田 哲也
出願人/特許権者： 独立行政法人産業技術総合研究所 ,  ザ ユニバーシティ オブ バーミンガム
代理人 (5件)： 本多 一郎 ,  杉本 由美子 ,  森 俊晴 ,  本多 一郎 ,  杉本 由美子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-588652
特許番号：特許第4476492号
出願日： 1999年12月16日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 (a)基板表面に多置換トリフェニレン化合物を含有する被覆層を形成する工程、(b)該被覆層をパターン状に電子線で照射する工程、及び(c)このようにパターン状に照射された該被覆層の特定領域を選択的に除去する工程を包含する基板表面にレジストパターン層を形成する方法。

IPC (3件)：

G03F 7/004 ( 200 6.01) ,  G03F 7/32 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)

FI (5件)：

G03F 7/004 515 ,  G03F 7/004 531 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/32 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-154059
  
• 特開平4-051047
  
• 特開平2-171754