特許
J-GLOBAL ID:201103069247860464

光波形整形装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 長谷川 芳樹 ,  塩田 辰也 ,  寺崎 史朗
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-218689
公開番号(公開出願番号):特開2001-042274
特許番号:特許第4409669号
出願日: 1999年08月02日
公開日(公表日): 2001年02月16日
請求項(抜粋):
【請求項1】入射光の波形を整形して出射する光波形整形装置であって、 光変調材料層と、前記光変調材料層に対して入力側及び出力側にそれぞれ形成された2つの透明電極層とを有し、変調によって光の波形整形を行う透過型の空間光変調器と、 波形整形の対象となる前記入射光を分光する分光手段と、 前記分光手段によって分光された前記入射光を前記空間光変調器に結像させる結像手段と、を有し、 前記空間光変調器は、前記透明電極層の少なくとも一方に電気アドレスのための所定の電極パターンが形成されて構成されるとともに、前記電極パターンが形成された前記透明電極層の前記光変調材料層側の面上に、前記透明電極層とほぼ等しい屈折率を有し、前記透明電極層を覆って前記光変調材料層側の表面が平坦に形成された誘電体層を備えることを特徴とする光波形整形装置。
IPC (2件):
G02F 1/01 ( 200 6.01) ,  G02F 1/13 ( 200 6.01)
FI (2件):
G02F 1/01 D ,  G02F 1/13 505
引用特許:
出願人引用 (4件)
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