蛍光X線分析装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：杉本修司 , 野田雅士
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-223603
公開番号（公開出願番号）：特開2001-050917
特許番号：特許第3949850号
出願日： 1999年08月06日
公開日（公表日）： 2001年02月23日
請求項（抜粋）：

【請求項1】試料に1次X線を照射して発生する2次X線の強度を測定する蛍光X線分析装置において、試料によって散乱される1次X線の散乱線の測定強度と所定の基準値との比較に基づいて、定量分析する元素について用いるべき特性X線の系列を判断する判断手段を備えたことを特徴とする蛍光X線分析装置。

IPC (1件)：