特許
J-GLOBAL ID:201103070394960189

合成石英ガラス部材の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 小島 隆司 ,  西川 裕子
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-385595
公開番号(公開出願番号):特開2002-255577
特許番号:特許第4110362号
出願日: 2001年12月19日
公開日(公表日): 2002年09月11日
請求項(抜粋):
【請求項1】 反応域にバーナーからシリカ製造原料ガス、水素ガス、酸素ガス、及びフッ素化合物ガスを供給し、この反応域においてシリカ製造原料ガスの火炎加水分解反応によりシリカ微粒子を生成させるとともに、上記反応域に配置された回転可能な基材に上記シリカ微粒子を堆積させて多孔質シリカ母材を作製し、同多孔質シリカ母材をフッ素化合物ガスを含む雰囲気下で加熱ガラス化して得られた合成石英ガラスインゴットを加熱成型して合成石英ガラス部材を製造する方法において、上記加熱成型前に合成石英ガラスインゴットの表面を外周において外径の50%以下、両端部の合計において長手方向の長さの50%以下とするように除去することを特徴とするArF又はF2エキシマレーザー用フッ素含有合成石英ガラス部材の製造方法。
IPC (4件):
C03B 20/00 ( 200 6.01) ,  C03B 8/04 ( 200 6.01) ,  C03B 33/06 ( 200 6.01) ,  G02B 1/00 ( 200 6.01)
FI (7件):
C03B 20/00 Z ,  C03B 20/00 F ,  C03B 20/00 G ,  C03B 8/04 E ,  C03B 8/04 R ,  C03B 33/06 ,  G02B 1/00
引用特許:
審査官引用 (4件)
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