特許
J-GLOBAL ID：201103070994817550

陽極酸化処理方法および装置

発明者：
佐々木 正登

佐々木 正登 について

, 
石川 正純

石川 正純 について

, 
杉田 幸子

杉田 幸子 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について


代理人 (3件)： 綾田 正道 ,  今村 定昭 ,  坂本 栄一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-339889
公開番号（公開出願番号）：特開2003-147587
特許番号：特許第3921074号
出願日： 2001年11月05日
公開日（公表日）： 2003年05月21日
請求項（抜粋）：
【請求項1】ピストンと電極との間に反応流体を通して通電し、前記ピストンの少なくともリング溝内の表面に陽極酸化処理を施すための陽極酸化処理方法であって、 収容容器体の収容穴内に前記ピストンを収容し、 前記収容穴の内周面に有する一対のシール部材を前記リング溝の上下の開口縁部付近にそれぞれ当接し、 少なくとも前記上下のシール部材と、前記リング溝と、前記収容穴の内周面において前記上下のシール部材の間に開口した環状隙間とからなり、前記反応流体を保持流通する反応チャンバーを形成し、 絶縁体で環状に形成され、かつ前記環状隙間を上下方向に仕切る通路形成部を有する通路板を配置して、前記通路形成部の下方に前記反応流体の小供給流路を形成するとともに、前記通路形成部の上方に前記反応流体の小排出流路を形成し、 前記通路形成部の外周において該通路板と一体に絶縁体で環状に形成され、かつ前記収容容器体内の空間を上下方向に仕切る本体部を配置して、前記反応流体を前記小供給流路に供給する供給通路を前記本体部の下方に形成するとともに、前記反応流体を前記小排出流路から排出する排出通路を前記本体部の上方に形成し、 前記通路形成部以外の部材であって前記排出通路を形成する部材に前記電極を設け、 前記反応流体を前記小供給流路を経由して前記リング溝に供給し、該供給された反応流体を前記小排出流路を経由して排出しながら、陽極酸化処理を行うことを特徴とする陽極酸化処理方法。
IPC (2件)：
C25D 11/00 ( 200 6.01) ,  C25D 17/00 ( 200 6.01)
FI (2件)：
C25D 11/00 308 ,  C25D 17/00 A
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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