特許
J-GLOBAL ID:201103071094383119
還元鋳造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
綿貫 隆夫
, 堀米 和春
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-100786
公開番号(公開出願番号):特開2002-292456
特許番号:特許第3604347号
出願日: 2001年03月30日
公開日(公表日): 2002年10月08日
請求項(抜粋):
【請求項1】金属の溶湯を成形型のキャビティに注湯し、成形型のキャビティ内で溶湯と還元性化合物とを接触させて溶湯の表面に形成された酸化皮膜を還元しつつ鋳造する還元鋳造方法において、少なくとも前記キャビティ内の湿度を70%以下とした後、前記キャビティ内に還元性化合物を導入し、次いで、前記溶湯をキャビティ内に注湯して鋳造することを特徴とする還元鋳造方法。
IPC (3件):
B22D 27/18
, B22D 21/04
, B22D 23/00
FI (3件):
B22D 27/18 Z
, B22D 21/04 A
, B22D 23/00 Z
引用特許: