特許

J-GLOBAL ID：201103071399349069

レジスト剥離用組成物

発明者： 武井 瑞樹 ,  内田 恵未 ,  山下 真紀 ,  小谷 武
出願人/特許権者： ナガセケムテックス株式会社
代理人 (1件)： 進藤 卓也
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-152304
公開番号（公開出願番号）：特開2002-351093
特許番号：特許第4692799号
出願日： 2001年05月22日
公開日（公表日）： 2002年12月04日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 (A)下記一般式(I)で示される群より選択される少なくとも1種の化合物: (式中、R1〜R4は、それぞれ同一または異なっていてもよい水素原子、低級アルキル基、水酸基、カルボキシル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、またはアミノ基を表す)、(B)有機アミン、及び(C)水を含有する、レジスト剥離用組成物であって、 該(B)有機アミンが、アルキルアミン、1級アルカノールアミン、2級アルカノールアミン、3級アルカノールアミンおよび4級アンモニウム化合物からなる群より選択される少なくとも1種である、レジスト剥離用組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/42 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)

FI (2件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/30 572 B

引用特許：

審査官引用 (2件)

• レジスト剥離液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-058303   出願人：日本表面化学株式会社
• パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-059681   出願人：富士通株式会社