特許
J-GLOBAL ID：201103071723454300

配向性酸化物セラミックスの製造方法、配向性酸化物セラミックス、圧電素子、液体吐出ヘッド、超音波モータおよび塵埃除去装置

発明者：
渡邉 隆之

渡邉 隆之 について

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久保田 純

久保田 純 について

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林 潤平

林 潤平 について

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熊田 伸弘

熊田 伸弘 について

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望月 知明

望月 知明 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について

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国立大学法人山梨大学

国立大学法人山梨大学 について


代理人 (9件)： 岡部 讓 ,  臼井 伸一 ,  越智 隆夫 ,  本宮 照久 ,  朝日 伸光 ,  高橋 誠一郎 ,  齋藤 正巳 ,  木村 克彦 ,  ▲濱▼口 岳久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-023451
公開番号（公開出願番号）：特開2011-184289
出願日： 2011年02月07日
公開日（公表日）： 2011年09月22日
要約：
【課題】配向性の良好な配向性酸化物セラミックスの製造方法を提供する。【解決手段】酸化物結晶Bを含むスラリーを得る工程と、前記酸化物結晶Bに磁場を印加するとともに前記酸化物結晶Bの成形体を得る工程と、前記成形体を酸化処理して、前記酸化物結晶Bの一部もしくは全体とは異なる結晶系を有する酸化物結晶Cからなる配向性酸化物セラミックスを得る工程を有する配向性酸化物セラミックスの製造方法。(1)原料を反応、(2)酸化物結晶Aを還元、または(3)酸化物結晶Aを高温に保持、急冷することで得られた酸化物結晶Bを含むスラリーを用いることができる。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸化物結晶Bを含むスラリーを得る工程と、前記酸化物結晶Bに磁場を印加するとともに前記酸化物結晶Bの成形体を得る工程と、前記成形体を酸化処理して、前記酸化物結晶Bの一部もしくは全体とは異なる結晶系を有する酸化物結晶Cの成形体からなる配向性酸化物セラミックスを得る工程を有することを特徴とする配向性酸化物セラミックスの製造方法。
IPC (14件)：
C04B 35/00 ,  C04B 35/462 ,  H01L 41/24 ,  H01L 41/09 ,  H01L 41/187 ,  H01L 41/22 ,  H01L 41/08 ,  H01L 21/824 ,  H01L 27/105 ,  B41J 2/16 ,  B41J 2/045 ,  B41J 2/055 ,  H02N 2/00 ,  B08B 13/00
FI (14件)：
C04B35/00 J ,  C04B35/46 J ,  H01L41/22 A ,  H01L41/08 C ,  H01L41/18 101B ,  H01L41/08 L ,  H01L41/22 Z ,  H01L41/08 Z ,  H01L27/10 444C ,  H01L41/22 B ,  B41J3/04 103H ,  B41J3/04 103A ,  H02N2/00 C ,  B08B13/00
Fターム (44件)：
2C057AF93 ,  2C057AG44 ,  2C057AP14 ,  2C057BA04 ,  2C057BA14 ,  3B116AB01 ,  3B116BB84 ,  4G030AA10 ,  4G030AA16 ,  4G030AA19 ,  4G030AA20 ,  4G030AA21 ,  4G030AA24 ,  4G030AA25 ,  4G030BA10 ,  4G030CA02 ,  4G030GA08 ,  4G030GA20 ,  4G030GA25 ,  4G030GA27 ,  4G031AA06 ,  4G031AA11 ,  4G031BA10 ,  4G031CA02 ,  4G031GA06 ,  4G031GA09 ,  4G031GA11 ,  5F083FR00 ,  5F083GA30 ,  5F083JA13 ,  5F083JA36 ,  5F083JA37 ,  5F083JA38 ,  5F083JA39 ,  5F083JA42 ,  5F083JA43 ,  5F083PR33 ,  5H680AA01 ,  5H680BB01 ,  5H680CC02 ,  5H680DD02 ,  5H680DD15 ,  5H680DD22 ,  5H680GG01
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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引用文献：
出願人引用 (1件)

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