特許

J-GLOBAL ID：201103072399434585

基板の熱処理方法およびそのための炉設備

発明者： 松田 直子 ,  鈴木 雅教 ,  森田 真登 ,  中 裕之
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 森本 義弘
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-314623
公開番号（公開出願番号）：特開2003-123651
特許番号：特許第3667270号
出願日： 2001年10月12日
公開日（公表日）： 2003年04月25日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 基板を予め設定された温度プロファイルに基づいて熱処理するに際し、上下に多段に積層された複数の炉の内部温度を各炉内の上部に設けられた複数のガス供給手段よりガスを供給することによって予め設定された温度に制御する工程と、前記各温度に制御された各炉に前記基板を搬入・搬出する工程とを有し、前記基板を搬入・搬出する工程では、前記複数の炉から選択された炉に前記基板を搬入し、所定時間経過後、前記選択された炉より前記基板を搬出し、前記搬出した基板を前記選択された炉から搬出した側と同じ側から前記選択された炉と異なる炉に搬入し、所定時間経過後、前記異なる炉より前記基板を搬出することを前記温度プロファイルに基づいて行うことを特徴とする基板の熱処理方法。

IPC (9件)：

H01J 9/24 ,  F27B 9/02 ,  F27B 9/04 ,  F27B 9/24 ,  F27B 9/40 ,  F27D 7/02 ,  F27D 7/06 ,  F27D 19/00 ,  H01J 11/02

FI (10件)：

H01J 9/24 A ,  F27B 9/02 ,  F27B 9/04 ,  F27B 9/24 R ,  F27B 9/40 ,  F27D 7/02 A ,  F27D 7/06 C ,  F27D 19/00 A ,  F27D 19/00 D ,  H01J 11/02 Z

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 基板の熱処理方法及び熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-058391   出願人：富士通株式会社
• PDP基板焼成炉
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-057464   出願人：昭和鉄工株式会社
• 連続処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-034237   出願人：株式会社デンコー
• 特開平4-279875
  

審査官引用 (2件)

• 基板の熱処理方法及び熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-058391   出願人：富士通株式会社
• PDP基板焼成炉
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-057464   出願人：昭和鉄工株式会社