特許
J-GLOBAL ID：201103072576244457

散水式水処理装置内の汚泥量制御方法

発明者：
長野 晃弘

長野 晃弘 について

, 
田中 秀治

田中 秀治 について

, 
加藤 薫

加藤 薫 について


出願人/特許権者：
三機工業株式会社

三機工業株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人山田特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-082224
公開番号（公開出願番号）：特開2011-212566
出願日： 2010年03月31日
公開日（公表日）： 2011年10月27日
要約：
【課題】DHSを用いた散水式水処理装置において、反応槽内の担体表面保持汚泥量を簡略な手法によって好適に制御できるようにする。【解決手段】担体が静置装填された複数の反応槽を有する散水式水処理装置を設け、前記各反応槽に被処理水を供給することにより被処理水の好気性水処理を行い、反応槽内の担体表面保持汚泥量が好気性水処理により増加して飽和域8に達する前に反応槽への被処理水の供給を一定期間停止し、担体表面保持汚泥が微生物により自己分解して減量された後に、再び反応槽に対する被処理水の供給を再開し、反応槽内の担体表面保持汚泥量が増加して飽和域8に達する前に再び反応槽への被処理水の供給を一定期間停止するという操作を繰り返し、この操作を全ての反応槽に対してローテーション式に行う。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
表面に好気性微生物と汚泥が付着固定される担体が静置装填された複数の反応槽を有する散水式水処理装置を設け、前記各反応槽に被処理水を供給することにより被処理水の好気性水処理を行い、反応槽内の担体表面保持汚泥量が前記好気性水処理により増加して飽和域に達する前に反応槽への被処理水の供給を一定期間停止し、前記担体表面保持汚泥が好気性微生物により自己分解されて減量した後に、再び反応槽に対する被処理水の供給を再開し、反応槽内の担体表面保持汚泥量が前記好気性水処理により増加して飽和域に達する前に反応槽への被処理水の供給を一定期間停止するという操作を繰り返し、この操作を全ての反応槽に対してローテーション式に行うことを特徴とする散水式水処理装置内の汚泥量制御方法。
IPC (1件)：
C02F 3/04
FI (1件)：
C02F3/04
Fターム (10件)：
4D003AA02 ,  4D003AB02 ,  4D003DA01 ,  4D003DA28 ,  4D003EA01 ,  4D003EA19 ,  4D003EA31 ,  4D003FA01 ,  4D003FA05 ,  4D003FA07
引用特許：
審査官引用 (14件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM