特許
J-GLOBAL ID：201103072810519309
排ガス処理方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
熊谷 隆
, 高木 裕
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-226226
公開番号（公開出願番号）：特開2003-033628
特許番号：特許第4226811号
出願日： 2001年07月26日
公開日（公表日）： 2003年02月04日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 廃棄物焼却炉又は廃棄物ガス化溶融炉から排出される排ガスを減温工程で冷却した後、
集塵工程又は排ガス処理工程で該排ガス中のダスト、HCl,SOxを除去し、
その後該排ガスを、ガス流入口とガス排出口を有するケーシングを備え、該ケーシング内の上流側にダイオキシン類を分解させる脱硝触媒層を下流側に活性炭層を配置した一体構造の活性炭層付き触媒反応塔にガス流入口から入口温度150〜200°Cで通過せしめることを特徴とする排ガス処理方法。
IPC (5件)：
B01D 53/86 ( 200 6.01)
, B01D 53/94 ( 200 6.01)
, B01D 53/70 ( 200 6.01)
, F23G 5/44 ( 200 6.01)
, F23J 15/00 ( 200 6.01)
B01D 53/36 G
, B01D 53/36 103 B
, B01D 53/34 134 E
, F23G 5/44 Z
, F23J 15/00 J
