特許

J-GLOBAL ID：201103073513796324

電荷中和装置およびその中和作業を監視する方法

発明者： マイケル エドワード マック ,  マイケル ファランド ,  ポール エドワード ルスティバー ,  デビッド ジョナサン フィッシュ
出願人/特許権者： アクセリス テクノロジーズ インコーポレーテッド
代理人 (1件)： 萼 経夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-172479
公開番号（公開出願番号）：特開2000-054126
特許番号：特許第4392562号
出願日： 1999年06月18日
公開日（公表日）： 2000年02月22日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 イオンビーム(102)を発生して1つまたはそれ以上の加工物(132)を処理するイオン注入装置(100)において電荷中和作業を監視する方法であって、 (a) 前記加工物(132)を処理する際に、前記イオンビームが通過する内部領域内で、中和電子(202)を発生し、 (b) 有効な電荷の中和電子電流を測定するために、前記内部領域に生じた中和電子(202)を集めるように配置されたターゲット電極(220)を通って流れる電流を監視する、各工程を有し、 前記ターゲット電極(220)は、イオンビーム(102)が通過する前記内部領域(222)を形成する通路本体(220)であることを特徴とする監視方法。

IPC (3件)：

C23C 14/48 ( 200 6.01) ,  H01J 37/20 ( 200 6.01) ,  H01J 37/317 ( 200 6.01)

FI (4件)：

C23C 14/48 B ,  C23C 14/48 C ,  H01J 37/20 H ,  H01J 37/317 Z

引用特許：

審査官引用 (3件)

• イオン照射装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-153012   出願人：日新電機株式会社
• イオン照射装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-191490   出願人：日新電機株式会社
• 特開平4-337237