処理装置

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出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：上島淳一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-084026
公開番号（公開出願番号）：特開2001-261151
特許番号：特許第3926533号
出願日： 2000年03月24日
公開日（公表日）： 2001年09月26日
請求項（抜粋）：

【請求項1】処理室内に処理気体を充填して該処理気体により被処理物の処理を行う処理装置において、内部が中空な略凹型状の本体部と、前記本体部の上方において中央凹部の片側に位置する処理室と、前記本体部の上方において前記中央凹部の前記処理室とは反対側に位置するとともに搬入出口が穿設されたバッファ室と、前記本体部の下方に位置し前記処理室と前記バッファ室とを連通させる遮断槽と、前記処理室内、前記バッファ室内ならびに前記遮断槽内を可動自在に配設された被処理物支持部材とを有し、前記遮断槽の内部に、前記本体部の前記中央凹部の底面より上方に液面が位置するように液体を貯留したことを特徴とする処理装置。

IPC (6件)：

B01J 19/00 ( 200 6.01) , B65G 49/02 ( 200 6.01) , B65G 49/07 ( 200 6.01) , C23F 4/00 ( 200 6.01) , H01L 21/304 ( 200 6.01) , H01L 21/677 ( 200 6.01)

FI (6件)：

B01J 19/00 D , B65G 49/02 H , B65G 49/07 L , C23F 4/00 Z , H01L 21/304 , H01L 21/68 A

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開平4-305927
特開平4-305927
ウェット処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-070114 出願人：株式会社中央理研

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