特許
J-GLOBAL ID：201103074099524780
蛍光X線分析装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉本 修司 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-239232
公開番号（公開出願番号）：特開2001-066269
特許番号：特許第3527955号
出願日： 1999年08月26日
公開日（公表日）： 2001年03月16日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 外部の機器により得られた試料の情報に基づき、少なくとも試料重量、融剤重量およびガラスビード重量を含む計算式を用いて、試料の成分含有率、試料と融剤の混合物を加熱溶融して作製されたガラスビードの融剤重量と試料重量との比である希釈率、および試料重量と融剤重量の合計からガラスビード重量を減算したイグロス重量と試料重量との比であるイグロス含有率の少なくとも1つを含むパラメータの計算を行い、このパラメータを使用して、試料の各成分の分析値計算の補正式による補正を行う蛍光X線分析装置であって、前記計算式を入力する入力手段と、入力された計算式を記憶する記憶手段と、試料分析時に、前記記憶された計算式にしたがって計算された前記パラメータを用いて、予め組み込まれた前記補正式を有するプログラムにしたがった演算を行い、分析値計算を補正する演算手段とを備えた蛍光X線分析装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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