特許
J-GLOBAL ID:201103074099804839
電子ビーム露光装置、照射位置検出方法、及び電子検出装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
龍華 明裕
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-371622
公開番号(公開出願番号):特開2002-175967
特許番号:特許第4246374号
出願日: 2000年12月06日
公開日(公表日): 2002年06月21日
請求項(抜粋):
【請求項1】 複数の電子ビームにより、ウェハにパターンを露光する電子ビーム露光装置であって、
前記複数の電子ビームを発生する電子ビーム発生部と、
前記電子ビームが照射され、前記電子ビームの照射位置を検出させるマーク部と、
前記複数の電子ビームの間に設けられており、前記マーク部から放射された電子を検出して、検出された電子量に基づく検出信号を出力する第1電子検出部と、
前記検出信号に基づいて、前記電子ビームの照射位置を検出する位置検出部と、
前記複数の電子ビームを前記マーク部に照射させるか否かを独立して切り替える照射切替手段と
を備え、
前記照射切替手段は、第1のタイミングにおいて、前記複数の電子ビームのうちの第1電子ビームを照射させ、第2のタイミングにおいて、前記第1電子ビームと隣接する第2電子ビームを照射させ、
前記位置検出部は、前記第1のタイミングにおいて、前記第1電子検出部から出力された検出信号に基づいて、前記第1電子ビームの照射位置を検出し、前記第2のタイミングにおいて、前記第1電子検出部から出力された検出信号に基づいて、前記第2電子ビームの照射位置を検出する電子ビーム露光装置。
IPC (5件):
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
, G03F 9/00 ( 200 6.01)
, H01J 37/244 ( 200 6.01)
, H01J 37/305 ( 200 6.01)
FI (7件):
H01L 21/30 541 D
, H01L 21/30 541 W
, G03F 7/20 504
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00 H
, H01J 37/244
, H01J 37/305 B
引用特許:
出願人引用 (4件)
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荷電ビーム描画装置及び描画方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-223386
出願人:株式会社東芝
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特開昭63-269523
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特開昭61-042129