特許
J-GLOBAL ID：201103074637388530
無水フタル酸の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
植木 久一
, 小谷 悦司
, 神谷 惠理子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-189962
公開番号（公開出願番号）：特開2001-064274
特許番号：特許第4557378号
出願日： 2000年06月23日
公開日（公表日）： 2001年03月13日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 1又は2以上の固定床反応器を用いて、オルソキシレン及び/又はナフタレンを、酸素含有ガスで接触気相酸化して無水フタル酸を製造する方法であって、
前記気相接触反応が行われる触媒層が3つ以上に分割されていて、
第1触媒層の出口での、オルソキシレン及び/又はナフタレンの転化率が30〜70%であり、
第2触媒層の出口での、オルソキシレン及び/又はナフタレンの転化率が70%以上である無水フタル酸の製造方法。
IPC (4件)：
C07D 307/89 ( 200 6.01)
, B01J 27/195 ( 200 6.01)
, B01J 27/198 ( 200 6.01)
, B01J 27/228 ( 200 6.01)
C07D 307/89 A
, C07D 307/89 C
, B01J 27/195 X
, B01J 27/198 X
, B01J 27/228 X
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (11件)
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