特許
J-GLOBAL ID：201103075221471532
薄膜磁気ヘッドの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
星宮 勝美
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-199850
公開番号（公開出願番号）：特開2001-028106
特許番号：特許第3490643号
出願日： 1999年07月14日
公開日（公表日）： 2001年01月30日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 互いに磁気的に連結され、記録媒体に対向する側において互いに対向する磁極部分を含み、それぞれ少なくとも1つの層からなる第1および第2の磁性層と、前記第1の磁性層の磁極部分と前記第2の磁性層の磁極部分との間に設けられたギャップ層と、前記第1および第2の磁性層の間に設けられ、スロートハイトを規定するスロートハイト規定用絶縁層と、少なくとも一部が前記第1および第2の磁性層の間に、前記第1および第2の磁性層に対して絶縁された状態で設けられた薄膜コイルとを備えた薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、前記第1の磁性層を形成する工程と、前記第1の磁性層の上に前記スロートハイト規定用絶縁層を形成する工程と、前記第1の磁性層の磁極部分の上に前記ギャップ層を形成する工程と、前記スロートハイト規定用絶縁層および前記ギャップ層の上に前記第2の磁性層を形成する工程と、少なくとも一部が前記第1および第2の磁性層の間に、この第1および第2の磁性層に対して絶縁された状態で配置されるように、前記薄膜コイルを形成する工程とを含み、前記第2の磁性層を形成する工程は、前記スロートハイト規定用絶縁層および前記ギャップ層の上に磁性膜を形成する工程と、前記磁性膜の上面を平坦化する工程と、前記磁性膜によって前記第2の磁性層のうちの少なくとも磁極部分を形成するために、平坦化された前記磁性膜をフォトリソグラフィによってパターニングする工程とを含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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