特許
J-GLOBAL ID:201103075522737295
配線構造およびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山川 政樹
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-048127
公開番号(公開出願番号):特開2000-252279
特許番号:特許第3481877号
出願日: 1999年02月25日
公開日(公表日): 2000年09月14日
請求項(抜粋):
【請求項1】 基板上に形成された銅からなる配線と、この配線の露出面を被覆するニッケルのメッキ膜からなる保護膜とを備え、前記保護膜は、前記ニッケルのメッキ膜とその表面を覆うルテニウムのメッキ膜とから構成されていることを特徴とする配線構造。
IPC (3件):
H01L 21/3205
, H01L 21/28 301
, H01L 21/288
FI (3件):
H01L 21/28 301 Z
, H01L 21/288 M
, H01L 21/88 R
引用特許: