特許
J-GLOBAL ID：201103075737673271
イオン照射装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
石島 茂男
, 阿部 英樹
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-007188
公開番号（公開出願番号）：特開2000-208088
特許番号：特許第4162792号
出願日： 1999年01月14日
公開日（公表日）： 2000年07月28日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 イオンを生成して放出するイオン源と、
前記イオンが放出される方向に配置され、第一の小孔を有する一の平板と、円筒電極と、第二の小孔を有する二の平板とが設けられ、前記イオンをイオンビームに成形して放出するイオンビーム成形器とを有し、
前記第一の小孔と、前記円筒電極と、前記第二の小孔を通過して成型された前記イオンビームを試料に照射し、前記試料から二次電子を放出させ、発生した二次電子電流を測定できるように構成されたイオン照射装置であって、
前記イオンが放出される方向と異なる方向に、前記第一、第二の平板を前記円筒電極の開口と重ならない位置まで移動させることができる移動手段を有し、
前記第一、第二の平板は支持体に取り付けられ、前記移動手段により、一緒に昇降移動するように構成されたイオン照射装置。
IPC (2件)：
H01J 37/252 ( 200 6.01)
, H01J 37/09 ( 200 6.01)
H01J 37/252 B
, H01J 37/09 A
