特許
J-GLOBAL ID：201103075833948141
ルールベースOPCの評価方法およびシミュレーションベースOPCモデルの評価方法並びにマスクの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
野田 茂
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-139719
公開番号（公開出願番号）：特開2002-333700
特許番号：特許第3909654号
出願日： 2001年05月10日
公開日（公表日）： 2002年11月22日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 評価用マスクパターンの設計データをルールベースOPCにより補正処理することによって補正データを得るマスクパターン補正ステップと、
前記補正データに基づいて、評価用マスクパターンを評価用マスクに形成する評価用マスク製作ステップと、
前記評価用マスクに基づいて、評価用ゲートパターンを評価用ウェハに形成する評価用ウェハ製作ステップと、
前記評価用ウェハに形成された前記評価用ゲートパターンの測長を行なうことにより評価用ゲートパターンの実測データを取得する実測ステップと、
プロセスキャリブレーションを行なうためのテスト用マスクのテストパターンの設計データと、前記テスト用マスクに基づいて製作されたテスト用ウェハのゲートパターンの実測データとに基づいてプロセスキャリブレーションがなされたシミュレーションベースOPCモデルを生成するシミュレーションベースOPCモデル生成ステップと、
前記シミュレーションベースOPCモデルによって前記評価用マスクパターンの設計データに対してシミュレーションを行なうことによりシミュレーションデータを得るシミュレーションステップと、
前記評価用ゲートパターンの実測データと前記シミュレーションデータを比較することによって、前記ルールベースOPCの評価を行なう評価ステップと、
を含むことを特徴とするルールベースOPCの評価方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (7件)
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