特許
J-GLOBAL ID：201103076584166894
塗布現像処理方法及び塗布現像処理システム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
金本 哲男
, 亀谷 美明
, 萩原 康司
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-138213
公開番号（公開出願番号）：特開2001-319867
特許番号：特許第3590328号
出願日： 2000年05月11日
公開日（公表日）： 2001年11月16日
請求項（抜粋）：
【請求項1】塗布現像処理システムの処理部において基板に塗布液を供給して基板に塗布膜を形成する工程と,露光処理装置において前記塗布膜が形成された基板に所定の光を照射して前記基板を露光する工程と,前記処理部において露光処理後に前記基板を現像する工程とを有する塗布現像処理方法であって,前記塗布膜形成工程と前記露光工程との間に,基板をケーシング内にある載置台上に載置する工程と,前記載置台上方の蓋体が下降し前記載置台と一体となって気密な減圧室を形成する工程と,前記減圧室内の雰囲気を前記蓋体に取り付けられた配管を通じて排気し,前記減圧室内を所定の圧力に減圧して所定の時間前記減圧室内の基板に付着した不純物を前記基板から除去する工程とを有し,前記減圧室内の所定の圧力と前記所定の時間は,前記処理部内で測定される不純物の濃度に基づいて調節されることを特徴とする,塗布現像処理方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 565
, G03F 7/38 501
, H01L 21/30 503 G
