特許
J-GLOBAL ID：200903031120160263
半導体製造システムおよびデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-002270
公開番号（公開出願番号）：特開平11-204396
出願日： 1998年01月08日
公開日（公表日）： 1999年07月30日
要約：
【要約】【課題】 露光装置とコータ・デベロッパのインラインシステムにおいて、インライン接続部から漏れ込むガス状化学物質を軽減すること。【解決手段】 露光装置とコータ・デベロッパとが接続され、これらの間の基板受け渡し経路に外部と遮断可能な空間が形成された半導体製造システムであって、該空間から露光装置への有害化学物質の侵入を防止する手段を設けたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
露光装置とコータ・デベロッパとがインライン接続された半導体製造システムであって、該インライン接続部から侵入するガス状化学物質を除去する手段を設けたことを特徴とする半導体製造システム。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, H01L 21/02
, H01L 21/68
H01L 21/30 514 D
, H01L 21/02 D
, H01L 21/68 A
, H01L 21/30 514 E
