特許
J-GLOBAL ID：201103076823853980
ホトマスクの製造方法、ホトマスクブランクスの製造方法およびホトマスクの再生方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
筒井 大和
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-246506
公開番号（公開出願番号）：特開2002-062634
特許番号：特許第3768786号
出願日： 2000年08月15日
公開日（公表日）： 2002年02月28日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 以下の工程を有することを特徴とするホトマスクの製造方法;
(a)マスク基板上にレジスト膜からなる集積回路用の第1の遮光部をパターン形成する工程、
(b)前記レジスト膜からなる集積回路用の第1の遮光部を剥離する工程、
(c)前記レジスト膜からなる集積回路用の第1の遮光部を剥離した後のマスク基板上にレジスト膜からなる集積回路用の第2の遮光部をパターン形成する工程、
(d)前記(a)工程の前に、前記マスク基板にマスク情報パターンを形成する工程を有し、
前記マスク情報パターンを、マスク基板に形成された溝、マスク基板上に形成されたメタルからなる遮光パターンまたはその両方によって形成するホトマスクの製造方法。
IPC (2件)：
G03F 1/08 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
G03F 1/08 L
, G03F 1/08 M
, G03F 1/08 Z
, H01L 21/30 502 P
