特許
J-GLOBAL ID:201103077071061260

水素供給装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 伊藤 洋二 ,  三浦 高広 ,  水野 史博
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-190312
公開番号(公開出願番号):特開2002-179407
特許番号:特許第4660982号
出願日: 2001年06月22日
公開日(公表日): 2002年06月26日
請求項(抜粋):
【請求項1】 水素消費装置(60)に供給する水素を生成する水素供給装置であって、 改質原料が通過する低温流体通路(A)と、 燃焼ガスを発生させる燃焼ガス供給部(70)が設けられた高温流体通路(B)と、 触媒反応により前記改質原料を水素に改質する改質部(40)と、 低温流体通路(A)における前記改質部(40)の上流側に配置され、前記改質原料を加熱する蒸発部(20)とを備え、 前記改質部(40)は、回転軸(25)を中心に回転駆動される改質部回転蓄熱体(41)を有しており、前記改質部回転蓄熱体(41)は回転することにより、前記低温流体通路(A)と前記高温流体通路(B)とを交互に移動し、前記高温流体通路(B)にて前記燃焼ガスの燃焼熱を受け取り、 前記蒸発部(20)は、回転軸(25)を中心に回転駆動される蒸発部回転蓄熱体(21)を有しており、前記蒸発部回転蓄熱体(21)は回転することにより、前記低温流体通路(A)と前記高温流体通路(B)とを交互に移動し、前記燃焼ガスの燃焼熱を前記改質原料に伝えることを特徴とする水素供給装置。
IPC (2件):
C01B 3/40 ( 200 6.01) ,  H01M 8/06 ( 200 6.01)
FI (2件):
C01B 3/40 ,  H01M 8/06 G
引用特許:
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (12件)
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