特許
J-GLOBAL ID：201103078112389477
高清浄乾燥空気の製造供給システム及び方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
木戸 一彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-559584
特許番号：特許第4616475号
出願日： 1999年07月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 空気圧縮機,触媒精製器,吸着精製器を備えた高清浄乾燥空気製造装置で製造した高清浄乾燥空気を、半導体又は高密度記録媒体又は液晶製造工場のクリーンルーム内に供給するシステムであって、前記クリーンルーム内に、保管庫及び搬送装置を有する搬送設備と、処理設備とを配置し、前記高清浄乾燥空気を該搬送設備及び処理設備のいずれか一方又は双方に供給する供給経路と、前記搬送設備及び処理設備のいずれか一方又は双方から排出された使用済み高清浄乾燥空気を再度搬送設備及び処理設備のいずれか一方又は双方に循環供給する使用済み高清浄乾燥空気循環装置と、該使用済み高清浄乾燥空気循環装置を有する循環経路とを備え、前記使用済み高清浄乾燥空気循環装置は、前記供給経路に設けた高清浄乾燥空気を膨張させる膨張タービンと、前記循環経路に設けられて前記膨張タービンの発生動力により駆動される循環用ファンとを有している高清浄乾燥空気の製造供給システム。
IPC (2件)：
H01L 21/02 ( 200 6.01)
, F24F 7/06 ( 200 6.01)
H01L 21/02 D
, F24F 7/06 C
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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