特許
J-GLOBAL ID：201103078179444510
膜形成用組成物および絶縁膜形成用材料
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
白井 重隆
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-258831
公開番号（公開出願番号）：特開2001-288405
特許番号：特許第4596099号
出願日： 2000年08月29日
公開日（公表日）： 2001年10月16日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 下記一般式(1)で表される繰り返し構造単位を有し、かつ構造単位中にアルキル基を有する重合体を含有してなる膜形成用組成物。
(式中、R1は同一または異なりアルキル基を示し、a〜dは同一または異なり0〜4の整数、Xは芳香環を1〜3個有する2価の有機基を示し、かつ下記一般式(2)で表される(A)〜(K)の群から選ばれた少なくとも1種の基である。)
(式中、R2は同一または異なりアルキル基を示し、eは同一または異なり0〜4の整数、fは同一または異なり0〜3の整数、gは同一または異なり0〜2の整数を示す。)
IPC (4件)：
C09D 171/00 ( 200 6.01)
, C08G 65/34 ( 200 6.01)
, C09D 5/25 ( 200 6.01)
, H01B 3/42 ( 200 6.01)
C09D 171/00
, C08G 65/34
, C09D 5/25
, H01B 3/42 G
