特許
J-GLOBAL ID：201103078207707492

磁気記録媒体の製造装置、磁気記録媒体の製造方法、及び、磁気記録媒体

発明者：
八尋 隆

八尋 隆 について

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萬代 俊博

萬代 俊博 について

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曽我 和幸

曽我 和幸 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-073859
公開番号（公開出願番号）：特開2011-210288
出願日： 2010年03月26日
公開日（公表日）： 2011年10月20日
要約：
【課題】非磁性層上に磁性層を形成する際に、磁性塗布液の溶媒が乾燥した非磁性層に浸透してしまうことに起因する、磁性層の配向不良や電磁変換特性の劣化を抑えられる磁気記録媒体の製造方法、磁気記録媒体の製造装置、磁気記録媒体を提供する。【解決手段】帯状の支持体に、支持体上に形成された非磁性層と、非磁性層上に形成された磁性層とを含む磁気記録媒体の製造装置であって、搬送される支持体上に非磁性塗布液を塗布し、非磁性塗布層を形成する非磁性塗布液塗布部と、非磁性塗布液塗布部において形成された非磁性塗布層を乾燥させ、非磁性層を形成する第1乾燥部と、第1乾燥部において形成された非磁性層上に磁性材料を含む磁性塗布液を塗布し、磁性塗布層を形成する磁性塗布液塗布部と、磁性塗布液塗布部において形成された磁性塗布層に含まれる磁性粒子を配向する配向部と、第1乾燥部から配向部の間に配置され、搬送されている支持体を冷却する冷却手段と、を有する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
帯状の支持体に、前記支持体上に形成された非磁性層と、前記非磁性層上に形成された磁性層とを含む磁気記録媒体の製造装置であって、 搬送される前記支持体上に非磁性塗布液を塗布し、非磁性塗布層を形成する非磁性塗布液塗布部と、 前記非磁性塗布液塗布部において形成された前記非磁性塗布層を乾燥させ、前記非磁性層を形成する第1乾燥部と、 前記第1乾燥部において形成された前記非磁性層上に磁性材料を含む磁性塗布液を塗布し、磁性塗布層を形成する磁性塗布液塗布部と、 前記磁性塗布液塗布部において形成された前記磁性塗布層に含まれる磁性粒子を配向する配向部と、 前記第1乾燥部から前記配向部の間に配置され、搬送されている前記支持体を冷却する冷却手段と、を有する製造装置。
IPC (3件)：
G11B 5/842 ,  G11B 5/78 ,  G11B 5/845
FI (4件)：
G11B5/842 Z ,  G11B5/78 ,  G11B5/842 B ,  G11B5/845
Fターム (8件)：
5D006DA00 ,  5D112AA03 ,  5D112AA05 ,  5D112AA22 ,  5D112CC18 ,  5D112CC19 ,  5D112CC20 ,  5D112DD00
引用特許：
審査官引用 (4件)
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