光ファイバグレーティングの製造方法及びこれに用いられる光ファイバ

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：志賀正武 , 高橋詔男 , 渡邊隆 , 青山正和
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-157325
公開番号（公開出願番号）：特開2001-337254
特許番号：特許第4169906号
出願日： 2000年05月26日
公開日（公表日）： 2001年12月07日
請求項（抜粋）：

【請求項1】光ファイバ裸線の周上に、プライマリ被覆層、セカンダリ被覆層を順次設けてなる光ファイバであって、前記プライマリ被覆層が、紫外線透過性熱硬化型のシリコーン樹脂からなり、その厚さが1〜10μmであり、前記セカンダリ被覆層が、引張強度が30MPa以上、ヤング率が100〜800MPaである紫外線吸収性の紫外線硬化型樹脂からなり、その厚さが51.5〜61.5μmであることを特徴とする光ファイバグレーティング用光ファイバ。

IPC (2件)：