特許
J-GLOBAL ID:201103078924263965

縦型熱処理装置及び熱処理方法並びに保温ユニット

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井上 俊夫
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-199992
公開番号(公開出願番号):特開2002-025994
特許番号:特許第3641193号
出願日: 2000年06月30日
公開日(公表日): 2002年01月25日
請求項(抜粋):
【請求項1】 蓋体の上に支持された保持具に多数の被処理体を棚状に保持させ、前記保持具を反応容器内に下方側から搬入すると共に前記蓋体により反応容器の下端を気密に塞ぎ、前記反応容器内を加熱雰囲気にして被処理体に対して熱処理を行う縦型熱処理装置において、 前記蓋体と保持具との間にて、保持具の底部に対向するように設けられ、抵抗発熱体をセラミックスの中に封入してなる面状の発熱体ユニットと、 この発熱体ユニットの下方側に設けられ、石英板の一面に黒色膜層が形成された遮熱板と、を備えたことを特徴とする縦型熱処理装置。
IPC (3件):
H01L 21/31 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22
FI (3件):
H01L 21/31 B ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 511 A
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 熱処理装置及び処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-325008   出願人:東京エレクトロン株式会社
  • 半導体製造装置の縦型炉
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-197989   出願人:国際電気株式会社
  • 面状ヒータ
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-026186   出願人:東芝セラミックス株式会社, 東芝機械株式会社

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