特許
J-GLOBAL ID：201103079008522900
極端紫外光源装置
発明者：
,
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (3件)：
宇都宮 正明
, 保坂 延寿
, 渡部 温
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-284539
公開番号（公開出願番号）：特開2011-082473
出願日： 2009年12月15日
公開日（公表日）： 2011年04月21日
要約：
【課題】EUV光源装置において、ミラーコーティングに有害であるデブリから集光ミラーを保護する。【解決手段】このEUV光源装置は、ターゲット物質にレーザ光を照射することにより極端紫外光を発生する装置であって、極端紫外光の生成が行われるチャンバ24と、チャンバ内にターゲット物質を供給するターゲット供給部5及びターゲット噴射ノズル6と、ターゲット物質にプラズマ生成レーザ光を照射することによりプラズマを生成するメインパルスレーザ装置9と、プラズマ生成時に発生した中性粒子にイオン化レーザ光を照射して中性粒子をイオン化するイオン化レーザ装置11と、プラズマから放射される極端紫外光を集光する集光ミラー7と、イオンをトラップするために、チャンバ内に磁場を形成する磁石8とを含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ターゲット物質にレーザ光を照射することによりターゲット物質をプラズマ化して極端紫外光を発生する極端紫外光源装置であって、
極端紫外光の生成が行われるチャンバと、
前記チャンバの内部にターゲット物質を供給するターゲット供給部と、
前記チャンバの内部のターゲット物質にプラズマ生成レーザ光を照射することによりプラズマを生成するプラズマ生成レーザ部と、
プラズマ生成時に発生した中性粒子にイオン化レーザ光を照射することにより中性粒子をイオンに変換するイオン化レーザ部と、
前記プラズマから放射される極端紫外光を集光する集光ミラーと、
前記イオンをトラップするために、前記チャンバの内部に磁場を形成する磁場形成部と前記チャンバの内部に電場を形成する電場形成部との内の少なくとも一方と、
を具備する極端紫外光源装置。
IPC (1件)：
FI (2件)：
H01L21/30 531S
, H01L21/30 531A
5F046CB08
, 5F046CB22
, 5F046CB27
, 5F146CB08
, 5F146CB42
, 5F146CB47
