特許
J-GLOBAL ID：201103079165815601
記録用薄膜磁気ヘッド及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
野▲崎▼ 照夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-248526
公開番号（公開出願番号）：特開2001-076317
特許番号：特許第3842490号
出願日： 1999年09月02日
公開日（公表日）： 2001年03月23日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 トラック幅がTr、上部シールド層と下部シールド層間の距離がH2である再生用薄膜磁気ヘッドによって読み取られる信号を記録する記録用薄膜磁気ヘッドの製造方法において、
(a) 前記下部コア層を磁性材料を用いてメッキ形成する工程と、
(b) 前記下部コア層の上に、記録媒体との対向面からハイト方向へ延びる内幅寸法が1μm以下の溝部を有する絶縁層を形成する工程と、
(c) 前記溝部内で、前記下部コア層上に下部磁極層をメッキ形成する工程と、
(d) 前記溝部内で、前記下部磁極層上に非磁性金属材料のギャップ層をメッキ形成する工程であって、前記ギャッブ層上面の、トラック幅方向の中心線上における高さと、前記中心線からトラック幅方向にTr/2離れた位置における高さの差をA、ギャップ長をH1としたときに、A≦H1-H2を満たすギャップ層の形状を得る工程と、
(e) 前記溝部内で、前記ギャップ層上に上部磁極層をメッキ形成する工程と、
(f) 前記上部磁極層上に、前記上部磁極層と磁気的に接する上部コア層をメッキ形成する工程とを有し、前記(a)、(c)、(d)、(e)、(f)の工程のうち、少なくとも(c)の工程を、パルス電流を用いた電気メッキ法によって行うことを特徴とする記録用薄膜磁気ヘッドの製造方法。
IPC (1件)：
FI (4件)：
G11B 5/31 D
, G11B 5/31 C
, G11B 5/31 E
, G11B 5/31 K
