レーザ加工装置

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：井上義雄
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-194996
公開番号（公開出願番号）：特開2001-023920
特許番号：特許第4322359号
出願日： 1999年07月08日
公開日（公表日）： 2001年01月26日
請求項（抜粋）：

【請求項1】一対の異なる光源からの一対の照射光を空間的に継ぎ合わせて合成する合成光学系と、当該合成光学系からの合成光を一旦複数のビームに分割するとともに、当該複数のビームを略同一サイズの矩形ビームとしてそれぞれマスクに重畳して照射するホモジナイザとを含むビーム形成装置と、ワークを載置するステージと、前記マスクの像を前記ステージ上のワークに投影する投影光学系と、前記マスクと前記ワークとを相対的に移動させる走査手段と、前記ビーム形成装置の前記合成光学系の前に配置されるとともに、前記一対の異なる光源からの前記一対の照射光のうち一方の照射光の前記ビーム形成装置に入射するビームサイズに、前記一対の照射光のうち他方の照射光の前記ビーム形成装置に入射するビームサイズを一致させるテレスコープ光学系とを備えるレーザ加工装置。

IPC (4件)：

H01L 21/268 ( 200 6.01) , B23K 26/06 ( 200 6.01) , B23K 26/08 ( 200 6.01) , H01L 21/20 ( 200 6.01)

FI (4件)：

H01L 21/268 J , B23K 26/06 J , B23K 26/08 F , H01L 21/20

引用特許：

審査官引用 (12件)

レーザ熱処理方法およびその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-229370 出願人：株式会社東芝
特開昭57-181537
特開昭55-148430

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