特許
J-GLOBAL ID:201103080438715590

光学素子の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡辺 敬介
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-311411
公開番号(公開出願番号):特開2002-122722
特許番号:特許第4677085号
出願日: 2000年10月12日
公開日(公表日): 2002年04月26日
請求項(抜粋):
【請求項1】 支持基板上に複数の画素と、隣接する画素間に位置する隔壁とを少なくとも有する光学素子の製造方法であって、 支持基板上に樹脂組成物からなる隔壁を形成する工程と、 少なくともフッ素原子を含有するガス雰囲気下で上記隔壁が形成された支持基板にプラズマ照射するプラズマ処理工程と、 上記プラズマ処理を施した支持基板表面に水を接触させる水処理工程と、 上記水処理工程後に、隔壁に囲まれた領域にインクジェット方式によりインクを付与して画素を形成する工程とを少なくとも有することを特徴とする光学素子の製造方法。
IPC (7件):
G02B 5/20 ( 200 6.01) ,  B41J 2/01 ( 200 6.01) ,  G02F 1/1335 ( 200 6.01) ,  H05B 33/10 ( 200 6.01) ,  H05B 33/12 ( 200 6.01) ,  H01L 51/50 ( 200 6.01) ,  H05B 33/22 ( 200 6.01)
FI (7件):
G02B 5/20 101 ,  B41J 3/04 101 Z ,  G02F 1/133 505 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/12 B ,  H05B 33/14 A ,  H05B 33/22 Z
引用特許:
審査官引用 (4件)
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