特許

J-GLOBAL ID：201103081015645613

プリクリーンチャンバのための台座絶縁体

発明者： アール シャリフ モハメド エイ ,  スティムスン ブラッドリー オー ,  ゴウシュ デバブレイタ ,  コーエン バーニー エム ,  キング テインガン ケニー ,  ナラシンハン ムラリー
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (10件)： 中村 稔 ,  大塚 文昭 ,  熊倉 禎男 ,  宍戸 嘉一 ,  竹内 英人 ,  今城 俊夫 ,  小川 信夫 ,  村社 厚夫 ,  西島 孝喜 ,  箱田 篤
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-552702
特許番号：特許第4480271号
出願日： 1999年05月26日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 基板を支持するための装置であって、 a) 基板の中央部分と接触する支持台座と、 b) 支持台座を取囲む絶縁体であって、基板の円周縁から延びる傾斜部分を有する絶縁体と、 を備え、絶縁体は傾斜部分の下側縁から延びる下側環状平坦表面を有することを特徴とする装置。

IPC (3件)：

H01J 37/20 ( 200 6.01) ,  H01L 21/3065 ( 200 6.01) ,  H01L 21/683 ( 200 6.01)

FI (3件)：

H01J 37/20 A ,  H01L 21/302 101 G ,  H01L 21/68 N

引用特許：

審査官引用 (3件)

• プラズマ処理装置、処理装置及びエッチング処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-120869   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社
• ウェハより大きなペデスタル導体を有するR.F.プラズマリアクタ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-051879   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• 回転式基板塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-317471   出願人：大日本スクリーン製造株式会社