特許
J-GLOBAL ID：201103081498445245
プラズマ処理方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石原 勝
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-149457
公開番号（公開出願番号）：特開2002-343773
特許番号：特許第3973855号
出願日： 2001年05月18日
公開日（公表日）： 2002年11月29日
請求項（抜粋）：
【請求項1】真空容器の天井壁面を構成する誘電板の上部に配置された第1のコイルまたはアンテナと第2のコイルまたはアンテナに高周波電圧を印加し、前記誘電板を介して真空容器内に電磁波を導入することによりプラズマを発生させ、基板を処理するプラズマ処理方法において、
前記第1のコイル又はアンテナは、その外径が前記基板の外径よりも大きくかつ中心に近いほど前記誘電板との距離が大きくなるように形成され、
前記第2のコイルまたはアンテナは、前記第1のコイル又はアンテナと同軸にかつ前記第1のコイル又はアンテナと前記誘電板とで形成された空間内に配置された、前記第1のコイル又はアンテナに比べ外径が小さい平面コイルまたは平面アンテナである
ことを特徴とするプラズマ処理方法。
IPC (4件)：
H01L 21/3065 ( 200 6.01)
, C23C 16/507 ( 200 6.01)
, H01L 21/205 ( 200 6.01)
, H05H 1/46 ( 200 6.01)
H01L 21/302 101 C
, C23C 16/507
, H01L 21/205
, H05H 1/46 B
, H05H 1/46 L
